《光电工程》2020年“太赫兹成像技术”专题征稿启事

1. 专题名称 

太赫兹成像技术

 

2. 专题介绍 

太赫兹辐射是指频率在0.1~10 THz范围内的电磁波,它具有光子能量低,生物安全性好,非极性物质透过性佳等特性,可以应用在国防安全、质量检测、生物医疗、样品识别等方面。太赫兹成像技术充分利用了太赫兹辐射的特性,是太赫兹领域率先取得实际应用的方向之一。太赫兹数字全息技术、太赫兹近场成像技术,太赫兹层析成像技术、太赫兹压缩感知成像技术等新的技术被广泛使用,同时太赫兹成像技术也在口岸安检、产品质量实时监测等领域得到了实际应用。但是,目前的太赫兹成像技术也面临着分辨率低、成像速度慢等问题。研发新的太赫兹成像器件,探索新的太赫兹成像技术,克服现有的困难,开拓太赫兹成像技术的应用市场,对推动太赫兹成像技术不断创新发展具有重要意义。
为此,《光电工程》计划于2020年初推出“太赫兹成像技术”专题,旨在呈现太赫兹成像技术的发展状况,探讨太赫兹成像技术的研究趋势和应用前景,提出创新性的太赫兹成像技术,从而对本领域的发展带来新的触动。
 

3. 征稿范围 

1)太赫兹成像技术在国内外研究综述
2)提高太赫兹成像技术指标的方法
3)太赫兹成像技术的相关器件
4)太赫兹数字全息技术
5)太赫兹压缩感知成像技术
6)太赫兹近场成像技术
7)太赫兹层析成像
8)太赫兹成像技术的应用
 

4. 特邀组稿专家 

    

                       
张岩 教授
    首都师范大学    
王大勇 教授
    北京工业大学    
朱礼国 研究员
    中国工程物理研究院    


5. 截稿日期 

2019年9月31日
 

6. 投稿方式及格式 

通过《光电工程》期刊主页(http://www.oejournal.org/J/OEE.html/CN)的“投稿查稿”直接进入作者中心,按系统要求注册信息,上传稿件(作者在题目或留言标明“太赫兹2020”专题投稿)。投稿模板及要求请参见《光电工程》官网下载中心的相关模板。


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