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【专刊】:太赫兹成像技术
专题组稿专家:张岩 教授(首都师范大学),王大勇 教授(北京工业大学),朱礼国 研究员(中国工程物理研究院)

太赫兹波是指频率在0.1到30太赫兹(THz)范围内的电磁波辐射,它在非极性物质中具有较好的透过性并具有较低的单光子能量,在生物医药检测、半导体特性表征、人体安全检查、无损探伤等众多科研和工业领域具有极强的应用价值。随着太赫兹源与探测器技术的发展,太赫兹成像技术逐渐成熟,并开始走向应用。本专题主要从方法和应用两个方面介绍太赫兹成像技术的发展及未来。
希望本次推出的“太赫兹成像技术”专题能够通过综述太赫兹成像技术的前沿领域和研究热点,展现太赫兹成像领域的新理论、新技术和新方法,开拓太赫兹成像技术的应用领域,探讨太赫兹成像技术的发展趋势,为广大同行开展太赫兹成像技术研究提供参考,共同推动这门新技术的进一步发展和实际应用。
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  综述  |  QTP29; O441.4
  综述  |  TN29; O433.1
  综述  |  O438.1; TB877.1
  综述  |  TH742; O439
  综述  |  TN29; R318.6
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  综述  |  TN951; O441.4
  科研论文  |  TN29; O441.4
  科研论文  |  TN391.4; TN29